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光刻电子混合气

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半导体光刻电子混合气

   氟化氩 Argon Fluoride Gas Mixtures  ArF

  • 氟化氩混合气体应用于193nm光刻工艺中，通常与其它惰性气体混合物结合使用。

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氩氖 Argon Neon Gas Mixtures ArNe

  • 氩氖混合气体应用于193nm光刻工艺中，通常与卤素混合气体结合使用

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氟化氪 Argon Neon Gas Mixtures ArNe

  • 氟化氪混合气体应用于248nm光刻工艺中，通常与惰性气体混合物结合使用。

  • 氟化氪PDF下载

 

氪氖 Krypton Neon Gas Mixtures KrNe

  • 氪氖混合气体应用于248nm光刻工艺中，通常与卤素混合气体混合使用。

  • 氪氖PDF下载

 

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