在射频环境的蚀刻处理过程中和在高强电下的气相绝缘体及物理工业中， 六氟化硫提供氟或氟化硫自由基。其代表性的应用是氧化蚀刻、氮化蚀刻以 及晶片清洗。六氟化硫还可用于钨蚀刻，蚀刻的副产品易挥发且易从晶片表 明脱离。高纯度的六氟化硫在减小副产品影响和提高蚀刻效果方面起到了很好的控制作用。