氘氨 Deuterated Ammonia Gas 
ND3 
UN1005

• 氘氨是用于十亿字节组的随机存储器生产过程，可产生氘来制
  作氮化硅和氧氮化硅的钝化薄层。当扩散部分的氘取代失去的氧气时，有较重介子质量的氘以增加特定的晶体管寿命。氘氨是一种有毒、腐蚀性强的不可燃气体，TLV（极限值）为百万分之25。

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